硅来12英寸碳化硅衬底激光剥离量产设备批量交付

发布时间：2026-03-23来源：维科网激光

近日，硅来半导体（武汉）有限公司（以下简称“硅来”）第三批兼容12英寸碳化硅衬底激光剥离量产设备顺利完成客户交付。本次交付标志着硅来超大尺寸碳化硅衬底激光剥离技术已经成功通过产业化检验，将为碳化硅产业发展注入新的动能。

超大尺寸碳化硅衬底前景广阔

作为第三代半导体代表材料，碳化硅凭借禁带宽度大、熔点高、热导率高等优异特性，在高温、高压、高频条件下表现远超传统材料，广泛应用于新能源汽车、智能电网、5G通信等领域，并有望作为最理想的AR镜片材料、先进封装中介层材料等推动多个领域的技术变革。

与6英寸衬底相比，8英寸和12英寸碳化硅衬底能够进一步扩大单片晶圆上可用于芯片制造的面积，在同等生产条件下，可以显著提升产量、降低成本。

硅来自主创新激光剥离工艺技术领先

据了解，碳化硅单晶莫氏硬度高达9.5，接近于金刚石，其超硬、超脆的材料特性给衬底加工带来了极大挑战。

硅来的核心研发团队源自华中科技大学激光学科，团队深耕激光产业多年，具备深厚的底层技术积累与全流程产业化落地能力。

针对碳化硅衬底加工的行业痛点，该团队自主创新激光剥离技术，先后推出6英寸、8英寸、12英寸碳化硅衬底激光剥离量产设备，解决了大尺寸、尤其是超大尺寸碳化硅衬底加工的技术难题，效率和损耗显著优于传统线切割工艺。

从实际数据看，关键技术效果如下：

硅来自主创新激光剥离工艺技术构建差异化壁垒

不同于行业内主流的多光源分立技术方案，硅来的激光剥离设备构建了全栈自研的技术体系，从底层光源、光路设计、闭环控制到产线适配，形成了难以复制的差异化竞争壁垒，具体体现在：

独创性采用SOC组合光源。相比多台独立光源方案具备更高集成度和稳定性；
搭载自由曲面光路整形技术；
配备“白光干涉面形检测+反演算法补偿”技术：可靠性突出；
支持不同电阻率碳化硅晶体工艺定制，可承载更高能量，且具备“无老化、无寿命限制、强抗干扰”特性；
同时支持6、8、12英寸规格，定位精度与非标尺寸兼容性满足生产要求；
单台1.2m*1.4m设备即可完成切割全工序与自动上下料。空间布局更加紧凑，设备尺寸经过深度优化，在保证全自动化高性能运行的前提下，大幅节省车间布局空间，提升厂房整体利用率，适配不同规模产线的布局需求，更高效、更精密、更智能。