布鲁克加大光热原子力显微镜-红外技术投入 为下一代半导体器件提供支撑

　　布鲁克公司(纳斯达克代码：BRKR)近日宣布，将加速推进其光热原子力显微镜-红外(AFM-IR)光谱技术研发，以应对半导体行业在器件结构持续微缩、系统复杂度不断提升背景下面临的研究挑战。作为面向半导体行业的全球最大纳米红外(nanoIR)光谱技术供应商，布鲁克正将AFM-IR技术的应用场景，从成熟的纳米级污染物分析领域，进一步拓展至支撑下一代半导体技术的核心研究方向，包括极紫外(EUV)光刻胶图形化与显影、晶体管微缩用先进材料研发，以及面向新兴传感与功能器件应用的纳米级定点表面功能化研究。
 

 

　　在与全球领先的先进半导体技术研发创新中心imec开展的联合开发项目(JDP)中，布鲁克已完成Dimension IconIR系统的部署，用于评估光热AFM-IR技术在解决上述关键跨越式研究课题中的应用价值。双方合作重点在于，探究纳米级化学表征技术如何揭示影响半导体工艺开发与器件性能的材料行为及界面特性。
 

　　imec高级研究员、该联合开发项目负责人Albert Minj表示：“先进半导体研究的计量需求正快速迭代，我们将与布鲁克共同评估纳米红外技术如何满足纳米级材料表征领域的新兴需求。IconIR系统可实现无标记化学分析，分辨率优于5纳米，有助于更深入地解析与下一代器件理念相关的EUV光刻胶化学反应机理及材料相互作用。”
 

　　布鲁克纳米表面与计量事业部总裁David V. Rossi补充道：“与imec的合作，使我们能够大幅拓展光热AFM-IR技术在半导体研究环境中的应用能力。通过对复杂材料体系与界面的分析，纳米红外光谱可提供传统技术无法获取的化学层面关键信息。”
 

　　关于Dimension IconIR
 

　　Dimension IconIR将纳米红外光谱与扫描探针显微镜(SPM)技术相结合，具备单分子层检测灵敏度、高分辨率化学成像以及领先的纳米级性能表征能力。该系统基于广受行业认可的Dimension Icon原子力显微镜平台打造，可支持最大150毫米的样品检测，并集成了布鲁克专利的全系列光热AFM-IR成像模式。凭借上述性能，该系统可实现对复杂半导体材料与结构的精准表征，已有数百篇同行评审论文验证了其性能及与傅里叶变换红外光谱(FTIR)技术的关联性。
 

　　关于布鲁克公司
 

　　布鲁克助力科研人员与工程师实现后基因组时代的突破性发现，开发改善人类生活质量的全新应用。公司旗下高性能科研仪器及高价值分析、诊断解决方案，支持科研人员从分子、细胞到微观层面探索生命科学与材料科学。布鲁克与客户紧密协作，在后基因组生命科学分子与细胞生物学研究、应用及生物制药应用、显微与纳米分析、工业及清洁技术研究，以及支撑人工智能发展的下一代半导体计量等领域，推动技术创新、提升研发效率、助力客户取得成功。此外，布鲁克在临床前成像、临床表型组研究、蛋白质组学与多组学、空间与单细胞生物学、功能结构及凝聚体生物学，以及临床微生物学与分子诊断等领域，提供独具优势的高价值生命科学与诊断系统解决方案。
 

　　资料来源：布鲁克
 

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