五度妙笔
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数据库国产高端仪器 发力超痕量检测
芯片制程越先进，对杂质的容忍度就越低。
当检测要求从
ppm
（百万分之一）、
ppt
（万亿分之一）
继
续向更低浓度推进，
超痕量金属检测能力，
正成为高端制造中的关键一环
。
2026
年，
聚光科技
自主孵化子公司谱育科技正式推出
EXPEC 7350S Plus
系列
三重四极杆
电感耦合等离子体质谱仪（
ICP-MS/MS
）
。
谱育科技三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（
ICP-MS/MS
）核心亮点
该产品依托
成熟
ICP-MS
技术平台
，面向
半导体及高端制造
场景完成专项升级。
在关键硬件与软件体系自主可控的基础上，实现
sub-ppt级（十万亿分之一）
超
痕量检测能力。
可服务于
12
英寸晶圆先进制程相关表面金属离子检测等应用场景，为
半导体及高端制造领域
提供
更自主、更可靠
的检测解决方案。
谱育科技
ICP-MS
系列产品在客户现场稳定运行
良率的
“
隐形杀手
”
金属杂质必须被看见
半导体制造中，金属杂质直接影响良率。
随着集成电路持续迈向先进制程，对残留金属杂质控制水平的要求不断提高，相关检测能力已下探至sub-ppt级（十万亿分之一），部分场景甚至达到ppq级（千万亿分之一）。
检测能力不足，可能导致批量晶圆良率下降。长期以来，相关高端检测设备市场主要由海外厂商主导
。
EXPEC 7350S Plus
的推出，
体现了国产仪器在超痕量检测领域的进一步突破
。
四大能力进阶
从
“
测得出
”
到
“
测得准、测得稳
”
EXPEC 7350S Plus
不是简单性能叠加，而是围绕半导体超痕量检测场景，对
自主可控、检测灵敏度、产线适配、定制响应
四项能力进行深度升级。
全自主可控：核心软硬件自研，安全更有保障
降低
对国外
供应链与技术体系的依赖
围绕
核心部件、关键零部件及软件体系
实现自主开发，
软件源代码
自主编写
配备
智能水气防漏报警系统
，实时监测运行参数，异常时自动预警并保护设备
进一步保障
设备运行安全
、
实验环境安全
与
数据安全
，
提升设备在关键行业
场景中的稳定应用能力。
sub-ppt级灵敏度：在十万亿分之一中精准“捕获”金属杂质
搭载自主研发的
多次偏转离子传输系统
、
双提取透镜
与
新一代离子接口
实现sub-ppt级超低检出限
，在超痕量检测等关键性能指标上
具备国际同类产品竞争力
可服务于
12
英寸晶圆先进制程相关表面金属离子检测场景，有助于
支撑良率提升
。
VPD
全自动联用：从实验室到产线，检测流程无缝衔接
支持与
国内外全自动
VPD
系统
（气相分解系统）一体化联用
适配不同尺寸晶圆（
8
英寸、
12
英寸）及多种衬底材料（硅、碳化硅等）
提供
定制化自动化检测方案
，实现
“
取样
→
前处理
→
检测
→
报告
”
全流程自动化
降低人为误差，提升检测通量，帮助客户从实验室检测向
自动化、高通量检测流程升级
，更好
匹配量产节奏
。
敏捷响应本土需求：
更贴近国内应用场景
更好适配
国产化替代
需求
，持续提升落地效率
依托自主研发实力，
快速响应
不同行业用户的实际应用需求
更贴合本土应用场景
，提供个性化合作分析方案
缩短问题响应周期，满足国内产线
快速的技术迭代
与
定制化需求
。
用在哪里
半导体、高纯材料、高端制造
半导体
/
电子
：
12
英寸晶圆表面金属离子分析、碳化硅片检测
高纯材料
：超纯湿电子化学品、电子特气、高纯金属
溅射靶材
纯度分析
其他领域
：各类超痕量元素分析及相关工业检测场景
不止于检测
国产高端仪器的使命与进阶
当半导体制造持续迈向更先进工艺，分析检测设备早已不只是实验室工具，更是先进制造体系的重要支撑。
从关键硬件与软件体系自主开发，到
sub-ppt
级超痕量检测能力提升，再到面向
VPD
联用与产线流程的深度适配。
EXPEC 7350S Plus
系列三重四极杆
电感耦合等离子体质谱仪
（
ICP-MS/MS
）
，体现了
国产高端科学仪器
在
半导体关键检测
场景中的持续进阶。
聚光科技将持续深耕高端分析检测技术，依托
ICP-MS
系列的技术积累与产业化经验，为
半导体及高端制造
等
领域提供
更可靠、更自主、更高效
的分析检测解决方案。
