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数据库皓宇芯光亮相第七届世界激光制造大会：聚焦 EUV/VUV 探测标定与短波长单色化解决方案
2026 年 6 月 10–12 日，XZQ 2026第七届世界激光制造大会在深圳盛大启幕。本届大会以“激光智造·光链未来”为主题，汇聚中国、新加坡、加拿大、德国等多国院士专家、顶尖科学家及龙头企业高层，围绕固态激光器、碟片激光器、紫外激光及激光生物医疗等前沿领域展开深度对话，设置十大专题论坛、呈现240余场高水平报告。
在这场全球激光科技的巅峰对话中，合肥皓宇芯光科技有限公司围绕 EUV/VUV 探测、标定、光谱诊断及 200 nm 以下短波长单色化应用，在大会中重磅亮相，向与会人员展示了面向科研与工业检测场景的系列仪器及解决方案。
公司产品经理郑杨子作《HHG-EUV 光源的工业化进展》专题报告
光学部门经理何梁作《面向极紫外光源光谱检测技术》专题报告
随着半导体先进制程、精密光学、薄膜材料、超快光谱和短波长光源技术的发展，EUV/VUV 波段的功率、光谱、光束质量和元器件性能标定需求正在快速增长。相较于可见光和近红外波段，200 nm 以下至 EUV 波段的光学测试面临真空环境要求高、光学材料选择少、探测器响应标定复杂、光栅效率与滤光片透过率影响显著、系统集成难度大等问题。皓宇芯光针对这些痛点，构建了面向短波长光学测试的仪器平台与工程化解决方案。
在 EUV 光谱诊断方面，皓宇芯光重点推出 EUV/VUV 平场光谱仪系列产品。该系列产品面向高次谐波、等离子体光源、放电光源、激光等离子体光源、短波长荧光及材料发光等应用场景，可实现 200 nm 以下至 EUV 波段的光谱采集与分析。系统可根据用户需求配置不同波段范围的平场光栅、真空腔体、狭缝、滤光片、探测相机和数据采集软件，用于光源谱线分布、谐波阶次、光谱稳定性、谱宽、相对强度及长期漂移等参数测量。 在 EUV 功率与通量标定方面，皓宇芯光提供面向 EUV/VUV 波段的功率计与光电流检测模块。系统可结合经标定的光电二极管、低噪声电流采集单元、真空安装结构及数据记录软件，实现短波长光源功率、光子通量、脉冲能量、长期稳定性及光路传输效率的测量。该方案适用于 EUV 光源验收、束线效率评估、滤光片透过率标定、光栅衍射效率测试、探测器响应比对以及实验平台日常监测。针对 200 nm 以下至 EUV 波段的单色化需求，皓宇芯光可提供从真空束线、入射狭缝、单色光栅、滤光片、差分抽气、出射狭缝到探测终端的一体化单色化解决方案。
平场光谱仪实物图
该类系统可服务于光源单色输出、材料反射率/透过率测试、光学元件标定、探测器响应测试、光刻相关材料研究和短波长光谱实验。根据不同波段、分辨率、通量和样品测试需求，系统可采用平场光谱结构、掠入射单色仪结构或定制化真空光路结构，实现从实验室验证到工程化平台搭建的灵活适配。
皓宇芯光的技术优势不仅体现在单台仪器性能上，更体现在对 EUV/VUV 测试链路的系统理解。短波长检测结果往往受到光源稳定性、滤光片状态、光栅效率、探测器量子效率、真空窗口、杂散光、背景噪声及机械准直精度等多因素影响。
公司可根据用户实际应用，协助完成系统误差分析、标定流程设计、测试工装开发、真空光机结构集成和数据处理方法建立，帮助用户获得更可靠、更可追溯的测试结果。 面向科研用户，皓宇芯光的 EUV/VUV 光谱与功率检测设备可用于高次谐波实验、等离子体诊断、超快光谱、阿秒科学、短波长光源研发和材料光学性质研究。面向产业用户，相关设备可用于 EUV 光学元件检测、薄膜与滤光片标定、短波长探测器测试、半导体检测装备研发、真空紫外材料分析和先进光学系统验证。
在激光制造与精密检测深度融合的趋势下，短波长探测与标定能力正在成为先进制造装备研发的重要支撑。无论是 EUV 光源研发、光学元件评估，还是半导体检测、材料分析和前沿科学实验，都需要稳定、可靠、可工程化交付的光谱、功率和单色化测试工具。
本次亮相世界激光制造大会，皓宇芯光希望与激光产业链企业、半导体装备单位、科研院所、高校实验室及短波长光学用户开展深入交流，围绕 EUV/VUV 平场光谱仪、EUV 功率计、短波长单色化平台及相关标定方案，共同推动 200 nm 以下至 EUV 波段光学测试装备的国产化、工程化和标准化应用。
未来，皓宇芯光将持续围绕 EUV/VUV 探测、标定和单色化技术，完善短波长测试仪器产品线，提升设备的稳定性、易用性和应用适配能力，为激光制造、半导体检测、先进材料和前沿科学研究提供可靠的短波长光学测试工具。
来源：皓宇芯光
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