高端掩膜版市场快速扩张，哪些本土企业能上桌“分杯羹”

掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版，是微电子制造领域中光刻工艺所使用的图形母版，其精度和制造水平直接影响下游制品的优品率。

掩膜版具有较高的技术壁垒，需要在图形设计处理、光刻工序工艺、显影蚀刻工序工艺、测量和检查分析、缺陷控制与修补和洁净室建设等领域积累大量的技术，跨越多个技术和学科领域，无论从基础理论还是研发、设计和制造等方面，都要求厂商具备较高的技术水平,属于精密度较高的定制化产品。

按照下游应用场景的不同，掩膜版通常可分为半导体掩膜版、显示掩膜版以及其他类掩膜版。

其中，半导体掩膜版对精度、平整度和缺陷控制的要求远高于平板显示或电路板、LED等领域。尤其在先进制程应用方面，需要实现纳米级图形转移，工艺复杂度远超二元掩膜版的简单应用。

且随着AI驱动行业周期上行，晶圆厂提振以掩膜版为代表的半导体材料需求；而CoWoS、FOPLP等各类新型先进封装技术的突破，也对相对应封装掩膜版也提出了更小的线路图形、更高套刻精度、更均匀的CD精度等更严苛的技术要求。

显示掩膜版方面，电视面板尺寸的持续扩大需要采用更大规格的掩膜版，而随着8K/4K 显示、Micro OLED 及 VR/AR 设备的逐步普及，也对掩膜版精度与图案复杂度提出更高标准，从而带动高精度掩膜版需求持续增长。

从配套企业来看，半导体掩膜版大多为晶圆厂/IDM厂商自主设计开发配套，只有小部分采用第三方掩膜版厂商产品。目前该领域主要被海外企业长期占据主导地位，国内半导体掩膜版企业虽已基本能够稳定量产并供应90nm及以上的成熟制程BIM解决方案，但在65nm/55nm节点制程PSM产品开发乃至更先进制程领域仍有不足。

而国内显示掩膜版企业覆盖产品集中在8.5代线及以下掩膜，欠缺超高世代线、高世代高精度LTPS/AMOLED、Gray-tone、Half-tone掩膜等大批量量产能力，与国际厂商相比还有一定差距。

因此整体来看，我国掩膜版企业已具备了在成熟制程、平板显示及部分中端集成电路用掩膜版的国产化替代先决条件；而随着半导体产业的快速发展，叠加我国高精度、高世代面板线的集中建设，掩膜版产业市场巨大的本土化空间也已成型。

基于此，势银（TrendBank）整理了目前国内（大陆）及非大陆地区（含中国台湾省）的掩膜版相关布局情况，以供参考。（根据公开信息整理，若有遗漏或错误，换补充指正）