JSR 旗下 Inpria， 与 Entegris 互相授权金属氧化物光刻胶相关专利 ！
发布时间：2026-06-01来源：半导体盒
作为材料创新领域领军企业、Inpria 母公司的 JSR 公司，以及全球半导体高端材料与高纯解决方案龙头企业 Entegris，近日联合宣布签署一项非独占交叉专利许可协议，助力半导体行业推进面向新一代芯片制造的极紫外（EUV）光刻技术落地。Entegris 执行副总裁兼首席战略与创新官 Olivier Blachier 表示：“随着半导体工艺不断向更小节点演进，材料创新、产品性能、纯度与稳定性已然密不可分。本次专利交叉许可，也印证了半导体产业的创新正逐步走向全生态协同，能帮助客户更有信心地应用新一代光刻技术。”根据协议内容，Inpria 与 Entegris 将互相授权金属氧化物光刻胶（MOR） 相关专利，终止现有专利双方复审争议（案件编号：IPR2025-00267），并围绕新一代光刻胶材料探索深度合作。双方合作范围涵盖光刻胶配方、前驱体合成与研发，同时还将研发适配金属氧化物光刻胶的超精密净化过滤技术及配套输送系统，保障这类新材料在极紫外光刻大规模量产中性能稳定。JSR、Inpria 在金属氧化物光刻胶领域拥有领先技术积累，结合 Entegris 在化学气相沉积（CVD）用金属氧化物光刻胶前驱体、物料处理、专用高端过滤技术方面的专业能力，本次合作将推动高端材料在半导体制造领域的落地应用，助力双方面向人工智能时代实现前沿技术的规模化发展。JSR 公司高管 Toru Kimura 称：“将 Inpria 的金属氧化物光刻胶创新技术，与 Entegris 的提纯、物料处理技术相结合，能够大幅拓展这类技术在半导体材料生态中的应用场景。”
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