追光逐新 | 甬江实验室亮相 CIOE 2026

光博会是全球光电产业规模最大、影响力最广的综合性专业展会之一。本届展会以“AI赋能光电新变革”为主题，聚焦AI光电融合创新。本届展会面积达32万平方米，吸引来自全球30多个国家和地区的4000余家企业、科研院所参展，展出内容覆盖信息通信、精密光学、摄像头技术及应用、激光及智能制造、红外、紫外、智能传感、新型显示、AR&VR、光电子创新等多个领域。

围绕1.6T光互连、CPO 共封装光学、薄膜铌酸锂、AR/VR 光学模组等产业关注方向，微纳平台展示了经过完整工艺流程加工的成品晶圆，以及光刻、键合等特色工艺样品。

目前，微纳平台已形成较完善的工艺能力，能够开展AR光波导相关的光刻、刻蚀以及微透镜阵列等微纳光学器件加工，支持薄膜铌酸锂光芯片制造与测试，并具备多种化合物半导体材料加工和异质集成能力，为新型光电器件的研发、验证和应用提供芯片制造工艺支撑。

微纳平台建筑面积12000平方米，其中洁净室面积6000平方米，配备165台（套）工艺和检测设备，已形成6英寸研发和8英寸验证两线能力。平台构建覆盖材料制备、芯片制造、器件封装、测试分析等全流程综合能力，涵盖多材料异构集成、光学器件、硅基MEMS、生物芯片等领域，具备多材料体系、多尺寸基片兼容能力，可满足高精度对准、低温键合、高光洁度刻蚀、高深宽比刻蚀等技术要求。

展会期间，实验室展台氛围热烈，平台客户、业界同仁和专家学者等前来参观交流，深入了解技术能力及相关应用。现场交流中，光波导、硅透镜、TGV等工艺方向备受关注，各方围绕技术合作、工艺开发等开展对接。

下一步，甬江实验室将持续面向科技前沿和产业需求开展科研攻关，推动创新成果转化，进一步发挥微纳平台作用，为前沿科技创新和微纳制造技术发展提供开放共享的科研与工艺支撑，助力产学研各方协同创新。