光刻“最强大脑”集结！激光与光电子学进展学术大会分论坛一：2026先进光刻技术研讨会首轮邀请报告重磅揭晓

由中国激光杂志社主办的激光与光电子学进展学术大会将于2026年5月17日-19日在武汉·中国光谷科技会展中心盛大召开。

2026先进光刻技术研讨会由哈尔滨工业大学谭久彬院士担任论坛主席。中国科学院微电子研究所/中国科学院⼤学韦亚一研究员、东⽅晶源微电⼦科技（北京）股份有限公司俞宗强董事长担任共主席。哈尔滨工业大学刘杨教授担任论坛秘书长。论坛将围绕光刻技术、光刻材料和芯片制造等方向进入深入分享和探讨。

本次会议设置了Keynote、邀请报告、主题报告、3分钟快闪报告、张贴报告等多种报告形式。

快闪报告和张贴报告专场将设置优秀快闪报告和优秀张贴报告的奖项

欢迎老师同学们尽快投稿！

摘要投稿截止日期

2026年5月9日

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激光与光电子学进展学术大会：2026年5月17日—19日

武汉·中国光谷科技会展中心（湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道787号）

Keynote（按姓氏音序排名）：

耿 波，北京北方华创微电子装备有限公司

题目：待定

黄有为，深圳中科飞测科技股份有限公司

题目：待定

霍宗亮，长江存储科技有限责任公司

题目：待定

匡翠方，浙江大学

题目：掩模版制造新途径—万通道双光子激光直写光刻

师江柳，北京超弦存储器研究院

题目：逆向光刻技术成像性能与VSB写版效率的权衡研究

邀请报告（按姓氏音序排名）：

李文昊，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

题目：大面积高精度全息光栅制造

李自力，复旦大学

题目：导向自组装光刻技术在先进节点孔阵列图形制备中的应用

吕 健，无锡迪思微电子股份有限公司

题目：迪思微电子高端掩模技术介绍

浦东林，苏州苏大维格科技集团股份有限公司/苏州大学

题目：基于多维光场调控的直写光刻技术与应用

赵圆圆，暨南大学

题目：高精度数字无掩模纳米光刻及分辨率增强技术

张方方，中国科学院新疆理化技术研究所

题目：深紫外光电功能晶体材料的设计制备及性能研究

张 磊，南开大学

题目：面向先进光刻的团簇光刻胶

张志宇，中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

题目：无掩模激光光刻精度优化方案

朱 菁，上海镭慎光电科技有限公司

题目：深紫外超精密光学系统研制

1、请点击官网投稿按钮进行摘要投稿。 点击下载摘要投稿模板。请按摘要模板要求以PDF附件形式上传至投稿系统。

2、请填写250字的中文报告摘要，如果摘要审稿通过，汇同APP中将展示250字的报告摘要。

3、自然来稿作者还需准备500字的中文扩展摘要（务必以PDF形式将500字的扩展摘要提交至系统，用于专题主席审稿。）

4、摘要审稿接收后，作者可将全文按要求投至全文投稿系统。

5、张贴报告需要代表自己使用背胶纸喷绘（彩色或黑白），大小统一为宽度0.8 m，高度1.4 m。张贴报告请务必标注 文章的编号（LOPAC2026-2026-000***)，页脚请务必标注联系人以及电话和Email信息。

⭐温馨提示：如需删除或修改稿件，烦请在审稿前使用投稿邮箱登录，在投稿记录中操作

通道一：本次会议支持期刊为《激光与光电子学进展》《中国激光》《光学学报》《光学学报（网络版）》。摘要录用后将全文按期刊的要求提交至期刊网站，并在"作者留言处”备注"LOPAC2026”，期刊编辑部按照正常期刊审稿流程，根据审稿结果决定是否录用发表。

通道二：SPIE将作为Technical Cosponsor出版会议论文集。在摘要录用后注册并登录SPIE Submission and Review System进行英文全文投稿。通过全文审稿的文章将被 SPIE Digital Library 收录, 并提交 Ei Compendex, Scopus 及 Web of Science Conference Proceedings Citation Index数据库检索。

注：1. 摘要审稿通过后可自由选择进行全文投稿(通道一或通道二)。2. 作者需注册参会并按照日程安排出席文章报告。未参会及报告未出席均不予文章出版。3. 若参会代表仅参会交流，可以直接注册参会。

请各位参会代表先进行会议注册再交费，系统接受在线交费，交费方式为支付宝（在线交费可绑定公务卡）。通过银行汇款，请在个人中心-查看参会信息中将汇款回执上传至会议系统。

注：1、只交费没有填写注册信息无法打印参会证件及开票，参会请务必注册。2、享受优惠价格需在2026年5月9日（含）前注册并交费。本次会议将统一开具电子发票，需本人在汇同系统申请开票，发票将发送至您的注册邮箱。

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来源：汇同会议