专家拆解NPO与CPO产业痛点 ICC讯石《圆桌派》第二期回顾


ICC讯石光电有约《圆桌派》第二期嘉宾聚焦NPO与CPO的定位与差异,国内外技术路线偏好不同以及讨论封装、散热与风险管控等关键挑战。专家共识:AI算力爆发驱动光互联技术迭代,NPO与CPO并非替代关系,而是依托不同场景形成互补;标准化推进将加速NPO规模化,而CPO技术成熟度与产业链协同,将决定其大规模商用节奏。

本次圆桌由CommScope康普公司大中华区技术总监吴健主持,ZTE中兴光电子CPO技术预研总工汤宁峰、中科院西安光机所研究员暨灵熹光子创始人王斌浩、新菲光通信CTO舒华德作为特邀嘉宾,结合OFC 2026展会亮点与自身行业经验,多角度拆解产业痛点,共话技术未来。
话题一:NPO vs CPO:AI算力场景的路线分化与落地节奏
在AI集群Scale-up与Scale-out场景的应用探讨中,嘉宾们达成共识:光互联技术是突破算力瓶颈的关键。汤宁峰明确,Scale-out域聚焦交换机互联,而Scale-up域与GPU深度绑定,涉及全产业链协同;王斌浩补充道,Scale-up域的规模扩张必然依赖光互联技术,CPO在信号质量、带宽密度、时延、功耗上具备显著优势,而NPO则是当前产业生态下的重要过渡形态;舒华德结合OFC论坛调研数据指出,业界对NPO/CPO超越可插拔技术的时间预期已趋于理性,标准化推进将进一步助力NPO的规模化发展,同时二者均能满足不同场景的核心需求——Scale-out侧重标准化与成本控制,Scale-up追求超高带宽、低时延与低功耗。
话题二:3.2T/6.4T NPO/CPO:超高速光引擎的技术突破与商用验证
3.2T/6.4T高速光引擎的商用前景与挑战,成为本次研讨的另一重点。汤宁峰认为,良率提升的核心瓶颈在于调制器,需在信号完整性、功耗与工艺一致性之间实现平衡,代工厂的制造能力将成为关键影响因素;王斌浩提出,需从芯片设计(如采用更高带宽器件预留余量)与封装工艺两端协同发力,才能有效提升良率;舒华德观察到,3.2T方案技术已相对成熟,商用落地时间主要取决于架构必要性与可靠性要求,而6.4T(200G/lane)技术复杂度更高,但受益于AI热潮的推动,行业在400G组件层面的进展超出预期,预计400G时代光互联在Scale-up场景的部署速度将进一步加快,这与OFC 2026期间展现的光互联技术爆发趋势高度契合。
话题三:CPO先进封装:interposer中介层技术关联及产业链发展
CPO先进封装中介层(Interposer)的技术路线之争,成为嘉宾们激烈探讨的焦点。王斌浩认为,当前CPO方案并非必须依赖Interposer,若需采用,硅材料因与芯片热膨胀系数匹配、工艺成熟度高而更具优势,玻璃材料则在脆性与热匹配方面存在明显挑战;舒华德补充,玻璃材料虽在支持大尺寸和低介电常数上有优势,但在高密度布线、工艺成熟度及可靠性(如分层问题)上仍需持续突破,硅中介层则在代工厂支持与可靠性方面具备坚实基础;汤宁峰则给出了差异化观点,他表示硅材料介电常数高的短板较为突出,但工艺成熟稳定,而玻璃材料介电常数低,适合长距离传输与更多Chiplet集成,有望成为国内通过分散流片实现大规模集成的可行路径,这也呼应了当前先进封装从晶圆级向面板级过渡的行业趋势。
话题四:产业链生态与国产化:NPO/CPO的供应链格局与竞争态势
关于国内外对NPO与CPO技术路线的偏好差异,嘉宾们从产业基础、供应链环境等维度进行了深度剖析。汤宁峰认为,国内云运营商有解耦集采的成功经验,且国内具备CPO能力的交换机厂家较少,产业链希望避免过度集中,而国外虽信息繁杂,但Meta的测试数据与英伟达的实际部署已充分验证CPO的高可靠性;舒华德表示,这是产业博弈的必然结果,国外巨头早期推广CPO旨在建立技术壁垒,而大规模部署仍需健康的产业链支撑,国内光模块产业实力雄厚,在NPO推进上拥有更大话语权;王斌浩总结道,国内可插拔模块的强大实力为NPO发展提供了支撑,当前100G/lane速率下NPO的可行性、海外裸die获取受限对CPO的制约,以及国内CoWoS等先进封装能力相对薄弱,是导致国内外技术路线偏好差异的核心原因。
话题五:NPO与CPO对散热、液冷技术的要求
随着全面液冷化成为数据中心发展趋势,NPO/CPO的热耦合与泄漏风险管控也成为研讨重点。王斌浩指出,液冷提供的稳定低温环境,对温度敏感的微环方案等设计更为友好;汤宁峰分析,液冷的兴起与解决机架内高密度线缆互联的散热问题密切相关,CPO因更靠近大功耗主芯片,对液冷的要求更高,而NPO的液冷需求相对较低,现有液冷技术可靠性提升后可满足二者需求,这与当前AI服务器液冷技术的发展方向高度一致;舒华德从模块设计角度补充,可将浸没式液冷的防渗透经验迁移至冷板式液冷,同时需采用均热板、热隔离等设计,阻断动态热源对微环等敏感部位的影响,系统层面的防漏液快速接头也是管控泄漏风险的关键。
话题六:OFC新热点——XPO的应用价值
在XPO技术的定位与产业生态展望方面,嘉宾们认为其将在特定场景发挥重要作用。汤宁峰表示,Scale-out域对标准化要求高、时延功耗要求相对宽松,XPO有望率先在该领域落地应用,而在Scale-up域的应用前景仍不明确;王斌浩认为,每种技术都有其适用场景,XPO在Scale-out域更具适配性,虽性能并非最优,但通过技术优化仍有较长的生命周期;舒华德详细介绍,XPO采用fly over cable架构,可有效降低损耗、支持LPO实现,能较好解决Scale-out场景的带宽密度与功耗问题,其设计挑战主要集中在cable层面,且与NPO在不同场景中可形成互补应用,这也得到了OFC 2026期间XPO MSA等多源协议组织成立所释放的行业信号的印证。
网友互动
1、针对网友关注的200G/400G SerDes、PCB损耗及DSP延迟功耗等技术细节,嘉宾们给出了专业解答。舒华德表示,行业正通过XPO(over cable架构)等方式积极应对相关难题;汤宁峰指出,NPO在200G速率下仍面临链路裕量、互联互通等可靠性验证挑战,而CPO的实测数据已充分体现出高可靠性;王斌浩则从性能、可靠性、成本、可维护性四大维度论证CPO的优势,强调硅光方案的高可靠性与晶圆级封装的成本潜力,并通过集成与可换件的产品哲学差异,解读两种技术的发展逻辑。
2、针对网友提出的Micro-LED在Scale-up场景的商用前景问题,嘉宾们均持谨慎态度。汤宁峰表示,Micro-LED从芯片到商用的产业链配套仍需时间,2027年明确的商用时间点尚无法预判;王斌浩将其定义为“慢而宽”的技术路线,指出其虽以降低功耗为目标,但超低单通道速率导致实现高总带宽需依赖海量通道与光纤,技术复杂度极高,商业化进程将晚于持续演进的“快而窄”以太网速率路线;舒华德通过对比分析指出,Micro-LED在功耗上相较于NRZ硅光微环方案无显著优势,在可靠性与耦合难度上也不及成熟的VCSEL方案,需产业加快发展才能满足市场需求。
本次ICC讯石光电有约《圆桌派》第二期的成功举办,汇聚了产业各方智慧,清晰梳理了NPO与CPO产业的发展现状、核心痛点与未来方向。嘉宾们的深度分享,不仅解读了OFC 2026传递的行业信号,更为产业链企业的技术布局、产品研发提供了重要参考。随着AI算力需求的持续爆发,光互联技术正迎来新一轮发展机遇,NPO与CPO等核心技术的迭代升级,将持续推动光电产业高质量发展。
本文关键结论:
一、核心技术:NPO与CPO的定位与差异
· 应用场景划分:Scale-out 域(交换机互联)侧重标准化与成本控制,NPO 是重要过渡形态;Scale-up 域(GPU 绑定)追求高带宽、低时延、低功耗,CPO 具备显著技术优势。
· 技术核心差异:CPO 依托硅光方案与晶圆级封装,在密度、可靠性上突出,依赖全产业链协同;NPO 基于可插拔模块,依托国内成熟产业链,在 100G/lane 速率下可行性更强。
· 关键技术突破:3.2T 光引擎技术已成熟,商用落地取决于架构必要性与可靠性;6.4T 技术复杂度高,但 AI 热潮推动 400G 组件快速迭代;XPO 架构凭借 fly over cable 方案,有望率先在 Scale-out 域实现商用,解决带宽密度与功耗难题。
二、产业博弈:国内外技术路线偏好差异
· 国外趋势:以 Meta、英伟达为代表,已通过实测数据验证 CPO 可靠性,早期推广以构建技术壁垒为核心,部署依赖成熟产业链。
· 国内优势:云运营商解耦集采经验丰富,光模块产业实力雄厚,在 NPO 推进上话语权更大;但受裸 die 获取受限、CoWoS 等先进封装能力薄弱影响,CPO 布局相对谨慎。
三、关键挑战:封装、散热与风险管控
· 先进封装之争:硅中介层工艺成熟、可靠性高,与芯片热匹配度优;玻璃中介层虽低介电常数优势明显,但高密度布线、分层等可靠性问题仍需突破。
· 液冷适配风险:全面液冷化是数据中心趋势,CPO 因靠近大功耗芯片,对液冷要求更高;NPO 液冷需求相对较低;冷板式液冷需通过均热板、热隔离设计,阻断动态热源对微环等敏感部件的影响,同时需管控防漏液快速接头的泄漏风险。
四、潜在方向:边缘技术与产业展望
· 边缘技术定性:Micro-LED 因超低单通道速率,需海量通道与光纤才能实现高总带宽,技术复杂度极高,商业化进程远落后于硅光、VCSEL 等主流路线。
· 产业共识:AI 算力爆发驱动光互联技术迭代,NPO 与 CPO 并非替代关系,而是依托不同场景形成互补;标准化推进将加速 NPO 规模化,而 CPO 技术成熟度与产业链协同,将决定其大规模商用节奏。
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