【110期】纳米所加工平台在线膜厚与光学系数测定仪

1、设备原理：

通过偏振光的反射和入射特性，实现各向同性/异性薄膜的测量表征。设备通过特定角度的偏振态光源照射样品，随后探测器接收反射信号后将光信号转变为电信号，实现薄膜几何形貌和光学系数的测定。

2、设备亮点：

（1）覆盖范围广（190-1650nm）；

（2）测量速度快（≤6min/49points）；‌

（3）精度与重复性好（膜厚重复精度优于 0.005nm，折射率重复精度优于 0.0002）。 

3、主要用途：

适用于晶圆CMP过程中，薄膜厚度均匀性和形貌分布的表征分析以及薄膜光学系数的测定。

▋▍技 术 指 标

1、样品尺寸：8inch及以下洁净室样品

2、测量范围：190-1650nm

3、单点测量时间：<10s

4、光斑尺寸：200μm(短轴直径，消双抛透明衬底背反)

5、测量精度：膜厚优于0.005nm（100nmSiO₂/Si，30次重复，1σ）

6、折射率重复精度：0.0002（n@632.8nm，100nmSiO₂/Si，30次重复，1σ）

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