【112期】苏纳所微波等离子去胶机（B203）

1、设备原理：

      Q240 的去胶原理基于氧等离子体反应。在真空环境下，氧气受高频或微波能量激发，电离生成具有强氧化性的游离态氧原子。这些活性氧原子在射频电场作用下，与光刻胶薄膜发生氧化反应，将其转化为一氧化碳、二氧化碳等挥发性产物，最终由真空系统及时抽离，从而实现光刻胶的高效去除。

2、设备亮点：

Q240 可兼容所有8英寸以下的晶圆，适合各种尺寸的晶圆清洗需求。与其他去胶机相比，自由基分子的等离子体无偏和无电性损坏可实现对衬底的损伤较低的效果，具有低离子损伤，起辉迅速的优点。产品可放在托盘、6或8英寸石英舟批量处理，使用效率高。

3、主要用途：

▋▍技 术 指 标

1、设备气体配置： Ar、O2、N2

2、微波源频率2.45GHz，功率最大1000W

3、气体流量：O2 1000sccm、N2 500sccm，Ar 500sccm

4、工艺时间：0-30min

5、具备6/8英寸晶圆批量处理（去胶工艺）能力、兼容小样品

▋▍收 费 标 准

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