【114期】苏纳所设备介绍:中束流离子注入机 8英寸(B101)
发布时间:2026-08-22来源:微纳米人

行研分析

1、设备原理:
在真空和磁场环境中,本设备利用电场加速热电子碰撞气态分子,使之电离。产生的离子通过高压吸极、离子质谱器、线性加速器和终端能量检测器逐步筛选,形成一个具有高稳定性、特定能量和离子种类单一的离子束流,最后,这个离子束流会在样品腔内完成对晶圆的扫描注入过程。
2、设备亮点:
3、主要用途:
▋▍技 术 指 标
1、注入元素:B、N、F、P
2、注入能量:10 keV~250 keV(单价离子)
3、注入剂量范围:1E11 ions/cm²~1E16 ions/cm²
4、最大注入角度:0°~60°
5、样品尺寸:8 inch(尺寸向下兼容,数量1 pcs)
6、片内均匀性:1σ≤3.5%
7、批间重复性:1σ≤3.1%


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