黄仁勋：只需三四年，中国将拥自主先进光刻机！

发布时间：2026-09-18来源：传感器技术

中国近年在技术自立方面的进展有目共睹，但迄今仍未能开发出与 ASML 水平相当的光刻设备。这一短板已经严重制约了国内半导体产业。不过，英伟达首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）认为，中国只需再过三四年，就能开发出自己的先进光刻系统。这些系统能先进到什么程度，仍有待观察。

黄仁勋在 All-In 播客采访中说：“他们会在 2030 年前做到。2030 年就在眼前。理解中国，关键在于它非常擅长大批量生产。这只是时间问题……所以两三年只是一瞬间，算不上什么。在他们看来，已经到了。”

外媒认为，黄仁勋一向对中国技术发展偏乐观。他常把中国人工智能产业说成“紧跟”美国前沿实验室，考虑到中国在人工智能上投入的资本规模，这一判断或许站得住脚。但落到中国半导体产业整体、尤其是光刻环节，他的判断可能过于乐观。

免责声明：本文版权归原作者所有。本文所用视频、图片、文字如涉及作品版权问题，请第一时间告知，我们将根据您提供的证明材料确认版权并按国家标准支付稿酬或立即删除内容！本文内容为原作者观点，并不代表本公众号赞同其观点和对其真实性负责。

为您发布产品，请点击“阅读原文”

转载说明：本文系转载内容，版权归原作者及原出处所有。转载目的在于传递更多行业信息，文章观点仅代表原作者本人，与本平台立场无关。若涉及作品版权问题，请原作者或相关权利人及时与本平台联系，我们将在第一时间核实后移除相关内容。