新加坡国立大学 :研发酸性电子受体掺杂亚胺基 COF:器件层面揭示p型掺杂、实现高性能NO₂气体传感
半导体共价有机框架兼具结晶有序性与多孔结构,是电阻型气体传感器的候选材料,但本征电导率低、载流子浓度与迁移率不足,器件加工难度大,制约传感性能实际发挥。NO₂作为典型大气有毒污染物,亚胺类 COF 在室温 NO₂检测上具备潜力,但受限于电学本征短板。传统碘、TCNQ 掺杂存在挥发性或分子尺寸过大的缺陷,布朗斯特酸与路易斯酸作为掺杂剂的研究较少;同时多晶 COF 内部存在载流子陷阱,缺乏器件层级对掺杂效应、载流子输运的直接实验证据,因此亟需开发适配的掺杂策略与器件表征手段。
实验方法
采用席夫碱缩合合成 Py‑1P COF 粉末,将粉末浸泡不同浓度 H₂SO₄、H₃PO₄、FeCl₃乙醇溶液实现酸性受体掺杂。利用 PXRD、同步辐射 PXRD、BET 氮气吸附、FTIR、固体紫外‑可见、EPR、XPS、TGA 开展材料表征,结合 DFT 理论计算电子能带、轨道能级与分子构型。采用两相法在硅基光刻图形化 Ti/Au 基底原位生长 Py‑1P 多晶薄膜,等离子干法刻蚀制备叉指电极电阻型传感器与场效应晶体管器件,完成 NO₂气敏测试、FET 电学输出与转移特性测试,利用循环 I‑V、非线性因子分析载流子陷阱与接触界面性能。
图文解析

图 1:COF Py‑1P 的化学掺杂示意图、合成路线与电子带隙。(a) 材料层面与器件层面的掺杂效应示意图,借助场效应晶体管研究掺杂效应,并将该掺杂策略应用于电阻型气体传感器。(b) COF Py‑1P 的合成路线与化学结构。(c) Py‑1P 共价有机框架的能带结构与分波态密度 (PDOS)。(d) 使用 H₂SO₄、H₃PO₄、FeCl₃三种不同掺杂剂对 Py‑1P 进行化学掺杂的示意图。
图 1 从概念、合成、电子结构、掺杂流程四个维度搭建全文研究逻辑框架。图 1a 为总览示意图,区分材料层面和器件层面,原始 COF 存在大量载流子陷阱、载流子密度低;酸性电子受体掺杂后陷阱被填充、载流子密度显著提升,层间距缩短,π‑π 堆叠增强跳跃输运;制备两类核心器件:场效应晶体管用于解析载流子输运本征电学性质,电阻型气体传感器用于实际气敏应用。图 1b 展示 Py‑1P 由四氨基芘与对苯二甲醛通过席夫碱缩合反应得到亚胺键连接 COF,明确骨架化学结构。图 1c 为 DFT 能带与分波态密度,计算得到 Py‑1P 带隙约 1.03 eV,证实其半导体属性,层间 π 电子云重叠提供层间电子耦合通道,为电荷输运提供结构基础。图 1d 演示液相浸泡掺杂流程,室温乙醇体系引入 H₂SO₄、H₃PO₄、FeCl₃三类酸性电子受体,客体分子进入 COF 孔道,完成化学掺杂。整张图奠定本工作材料‑器件联合研究的整体思路。

图 2:原始样品与化学掺杂后 Py‑1P 的材料层面综合表征。(a) 不同掺杂剂、不同掺杂浓度下原始与掺杂 Py‑1P 的粉末 X 射线衍射 (PXRD) 谱图。(b) 由 77K 氮气吸附测试得到原始与化学掺杂 Py‑1P 的 BET 比表面积。(c) 不同掺杂浓度硫酸掺杂 Py‑1P 的固体紫外‑可见光谱,以及原始 (1)、低浓度硫酸掺杂 (2)、中浓度硫酸掺杂 (3)、高浓度硫酸掺杂 (4) Py‑1P 粉末样品的光学照片。(d) 原始样品与化学掺杂 Py‑1P 的傅里叶变换红外光谱 (FTIR)。(e) 室温条件下原始样品与化学掺杂 Py‑1P 的电子顺磁共振 (EPR) 谱图(中等掺杂浓度)。(f) 亚胺基团、H₂SO₄、H₃PO₄、FeCl₃的 HOMO、LUMO 能级的 DFT 理论计算。(g) 中等掺杂浓度硫酸掺杂 Py‑1P 的同步辐射粉末 X 射线衍射及结构精修。(h) 与硫酸作用前后结构转变的 DFT 理论计算。
图 2 为粉末样品掺杂后的全套材料表征,证实酸性掺杂的电荷转移机制与结构演变。图 2a 的 PXRD 证明掺杂后 COF 晶体骨架得以保留,但衍射峰强度随掺杂升高下降,说明长程结晶度出现部分损伤。图 2b 的 BET 数据显示掺杂后比表面积下降,磷酸掺杂样品比表面积衰减幅度弱于硫酸,孔尺寸几乎不变,排除孔道严重堵塞。图 2c 固体紫外‑可见光谱观察吸收边显著红移,粉末颜色由橙转为棕黑,对应光学带隙降低。图 2d 的 FTIR 中亚胺特征峰 1624 cm⁻¹ 向高波数 1660 cm⁻¹ 偏移,直接证明掺杂剂与亚胺 N 位点发生化学相互作用。图 2e 的 EPR 谱检测到掺杂后显著增强的未成对电子信号,证实电荷转移产生自由基载流子。图 2f 的 DFT 轨道能级证明亚胺 HOMO 电子向掺杂剂 LUMO 转移,支持 p 型电荷转移机理。图 2g 同步辐射 PXRD 精修证实 c 轴层间距减小;图 2h 理论计算表明掺杂改变亚胺与芘单元二面角,骨架平面度提升,解释层间距收缩的微观起源。

图 3:基于 COF 的电子器件制备及其表征。(a) 以 Py‑1P 薄膜作为沟道层的电子器件制备工艺流程。(b) 化学掺杂前后电阻型气体传感器的光学照片。(c) Py‑1P 粉末、收集得到薄膜、硅基底上薄膜的 PXRD 图谱。(d) Py‑1P 粉末与剥离收集薄膜 77K 氮气吸附测试(实线吸附,空心点脱附)。(e) 硅片基底上 Py‑1P 薄膜的原子力显微镜 (AFM) 图像。(f) 芯片上以 Py‑1P 薄膜作为沟道层的图形化场效应晶体管光学照片。(g) 电子器件接触区域的截面透射电镜 (TEM) 图像。(h) 电子器件截面能谱 (EDS) 元素映射以及选定区域的原子占比;橙色:碳,绿色:氮,粉色:氧,深蓝色:硅,浅蓝色:钛,棕褐色:金。
图 3 聚焦 COF 多晶薄膜电子器件的整套制备工艺与薄膜、器件界面表征。图 3a 完整展示器件工艺流程:光刻、电子束蒸发得到底电极,基底上原位两相法生长 COF 薄膜,利用带掩膜的等离子干法刻蚀实现微尺度图形化,之后再进行化学掺杂,解决 COF 器件微加工难题。图 3b 光学照片直观显示薄膜器件掺杂前后颜色改变,薄膜保持完整。图 3c 的 PXRD 证实薄膜与粉末具有相同晶相,无明显择优取向。图 3d 氮气吸附证明薄膜保持多孔,BET 略低于粉末源于基底生长约束。图 3e 的 AFM 测得薄膜厚度约 200 nm。图 3f 展示完成图形化的 FET 芯片实物,沟道长度约 8 微米。图 3g 截面 TEM 证明 COF 薄膜与 Ti/Au 电极形成无损伤的紧密接触,可观测晶格条纹,保证器件电荷注入。图 3h 截面 EDS 元素映射,清晰区分硅基底、Ti/Au 电极、COF 薄膜,COF 层检测到 C、N 与少量氧。整套表征证明成功制备高质量多晶 COF 薄膜微纳器件,为后续电学测试提供可靠样品基础。

图 4:COF 基电阻型传感器与场效应晶体管器件性能测试。(a,b) 硫酸掺杂 (a)、磷酸掺杂 (b) 的 NO₂响应电阻传感器暴露于不同浓度 NO₂后的电流变化(施加电压 2 V,室温)。(c) 不同掺杂浓度硫酸掺杂 Py‑1P 电阻传感器对 5 ppm 多种待测分析物的响应。(d) 不同 NO₂浓度下该工作与已报道材料 NO₂传感性能对比。(e) 以原始、轻掺杂、高掺杂 Py‑1P 作为沟道层的 COF 基场效应晶体管结构以及典型 I_ds‑V_g 转移曲线,V_ds=8 V。(f) V_ds=8 V 条件下原始样品与轻掺杂 Py‑1P 场效应晶体管的阈值电压;V_ds=60 V 饱和区提取原始、轻掺杂 Py‑1P 的场效应迁移率。(g) 原始 Py‑1P 薄膜两端循环 I‑V 曲线。(h) 轻掺杂 Py‑1P 薄膜两端循环 I‑V 曲线。(i) 高掺杂 Py‑1P 薄膜两端循环 I‑V 曲线。(j) I‑V 曲线的非线性因子 N,数据取自最后一次电压扫描循环。(k) 不同掺杂浓度硫酸掺杂样品各项性能雷达对比图。
图 4 呈现电阻型气体传感器与场效应晶体管器件的全部核心性能。图 4a、4b 气敏动态曲线表明硫酸、磷酸掺杂样品的电流响应远高于原始样品,可检测 500 ppb 的 NO₂。图 4c 选择性测试说明器件对 NO₂响应远高于其他干扰气体。图 4d 性能对标,该工作传感性能处于已报道电阻型传感器第一梯队,同时实验证实传感提升来源于电学改善而非吸附容量提升。图 4e 的 FET 转移曲线证明 Py‑1P 为 p 型半导体,轻掺杂器件开关比提升,高掺杂栅调控能力减弱。图 4f 给出迁移率关键数据:原始迁移率 1.09×10⁻³ cm²V⁻¹s⁻¹,轻掺杂提升至 1.03×10⁻² cm²V⁻¹s⁻¹,迁移率提升与常规掺杂散射效应相悖。图 4g‑i 两端循环 I‑V 的回滞现象代表载流子陷阱,掺杂浓度升高回滞减小,证明陷阱填充效应。图 4j 非线性因子 N 随掺杂下降,肖特基势垒变窄,电极接触改善。图 4k 雷达图综合对比结晶度、比表面积、迁移率、载流子密度、接触质量、热稳定性,明确中等掺杂是综合性能最优区间。
文章总结
该工作提出酸性电子受体对亚胺型半导体 COF Py‑1P 的 p 型化学掺杂策略,在保留框架结晶度与多孔特性前提下,实现从材料到器件层级系统研究。掺杂剂与亚胺位点发生电荷转移,提升载流子浓度,同时缩短层间距、提升骨架平面度。制备干法刻蚀图形化的 COF 薄膜器件,掺杂后电阻型传感器实现亚 ppm 级 NO₂高灵敏检测,性能处于已报道同类传感器前列;COF 场效应晶体管证实 p 型掺杂效应,轻掺杂后迁移率提升一个数量级,源于多晶体系陷阱填充效应,同时改善电极接触质量。该研究深化半导体 COF 化学掺杂与载流子输运认知,为 COF 电子器件开发提供新思路。
📜 文章链接:
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/anie.5511899
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