SK海力士Q1业绩创历史新高,利润同比增长4倍;多家大厂披露DRAM研发进度

今日热点
1. SK海力士Q1同比增长4倍
2. 韩系原厂获利暴增,市值不如预期
3. 三星无期限延后HBM5E量产时间
4. SK海力士斥资19万亿建立先进封装工厂
5. 力积电与美光合作开发DRAM
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SK海力士Q1同比增长4倍

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SK海力士Q1同比增长4倍
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SK海力士Q1同比增长4倍
SK海力士发布2026财年第一季度业绩报告。
营业利润达37.61万亿韩元,同比增长405%,超过市场预期的35.7万亿韩元,创下历史新高。
在截至3月的第一季度里,SK海力士营收同比增长198%至52.58万亿韩元,首次突破50万亿韩元大关。
第一季营业利润和销售额双双刷新单季纪录,营业利润率达到72%,超过去年第四季的58%,同样创下新高。

SK海力士表示,受惠于需求强劲,存储芯片价格走势将得以延续,今年资本支出也将大幅增加。预估DRAM和NAND存储器市场均将维持有利的价格环境。
截至2026财年第一季度末,现金及现金等价物季增19.4万亿-54.3万亿韩元,资金状况持续改善,为后续产能扩张和技术升级提供有力支撑。
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存储原厂获利暴增,市值不如预期
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存储原厂获利暴增,市值不如预期
受益于人工智能需求激增,存储器制造商正迎来创纪录的盈利状况,但市值仍远低于其他顶级AI芯片大厂。
自2025年8月底以来,在存储芯片价格飙升推动下,三星与SK海力士市值已分别飙涨3倍与4倍,远胜台积电77%的涨幅。
以绝对金额计算,三星与SK海力士2026年预估净利预计达1510亿美元与1150亿美元,双双超越台积电的810亿美元。
但这两家韩国存储器大厂的预估市盈率仍不足6倍,与台积电近20倍、英伟达22.4倍的水平形成鲜明对比。

不仅韩系厂商如此,全球也呈现相同趋势,美光与铠侠等市盈率同样低于10倍。
鉴于存储产业高周期性的历史,市场仍需更多时间和后续财报数据验证,才能真正相信这种高回报具备持久性。
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三星无期限延后HBM5E量产时间
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三星无期限延后HBM5E量产时间
三星在获得试产前批准(PRA)后,于今年第一季开始进行10nm第七代DRAM试产,但因良率不如预期,三星可能暂停推进量产下一代HBM。
内部透露,计划在1d良率达标前,无限期延后量产,目前尚未确定恢复时间。
1d DRAM技术将未来HBM蓝图扮演关键角色,预计应用于三星第九代HBM产品HBM5E。
由于量产计划落空,为该计划特派的约400名人员组成的1d量产工作小组实际已处于闲置状态。
但由于尚未获得产品验收批准,关键工程师目前仅在研发阶段进行信息交流。

与此同时,三星也加大投资,在韩国温阳建设一座大型晶圆厂,规模相当于四个足球场,将用于生产包括HBM在内的下一代DRAM产品。
该设施将负责封装、测试、物流与质量控制等关键环节,以支撑稳定量产。
随着开发加速与产能扩张,三星也将与SK海力士展开更激烈竞争,后者已在1d DRAM技术上取得良率突破。

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SK海力士斥资19万亿建立先进封装工厂
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SK海力士斥资19万亿建立先进封装工厂
SK海力士22日在清州科技园区产业园区举行了P&T7工厂开工仪式。
该工厂是SK海力士的第7座封装测试工厂,专门用于HBM等AI存储制造先进封装的核心环节。

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力积电与美光合作开发1P制程DRAM
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力积电与美光合作开发1P制程DRAM
力积电在2026年第1季度线上说明会表示,已与美光启动1P制程DRAM内存的联合研发,预计2027Q1导入设备、2028H1试产、2028H2量产。
1P制程的单位晶圆产出是力积电现有工艺的2.5倍,可为力积电未来利基型DRAM业务的发展打下坚实技术基础。

而力积电受美光委托的PWF(后端晶圆制造)业务则预计2026Q3启动设备导入、2026Q4试产、2027Q4量产,目标月产能2万片晶圆。
并在今年4月大幅提升了NAND闪存晶圆代工的投片价格,其有望在年内完成MLC NAND工艺开发,2027H2可供客户设计定案。
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