中电科风华发布新一代先进封装玻璃基板TGV与RDL光学量检测设备Venus 6200

 在先进封装向 “超越摩尔定律” 加速演进、玻璃基板成为 TGV（玻璃通孔）与 RDL（再分布线层）高密度集成核心载体的产业背景下，亚微米级尺寸偏差与细微缺陷的量检测难度呈指数级提升，“测不准、效率低、进口垄断” 成为行业普遍痛点。近日，中电科风华推出新一代Venus 6200 先进封装玻璃基板 TGV 与 RDL 光学量检测设备，以多模态光学成像与双引擎智能算法为核心，提供一站式高精度、高效率 AOI 检测解决方案，填补国内玻璃基板集成检测能力空白，助力国产设备替代突围。

多通道同步成像，实现缺陷零漏检

Venus 6200 搭载新一代高端 AOI 光学检测系统，创新性集成反射明场、透射明场、多角度暗场、荧光多通道单次扫描同步成像技术，无需分次扫描即可完成 TGV 通孔表面与孔腰深层的同步尺寸量测和缺陷检测，大幅提升产线效率。

针对 TGV 通孔：通过明场、多角度暗场与透射光路协同，结合同位对比技术，精准捕捉孔腰盲孔、异物、裂纹等深层隐蔽缺陷，完美适配 10 微米及更小尺寸通孔检测需求，杜绝器件可靠性隐患。

针对 RDL 线路层：明场 RGB 彩色同步成像清晰呈现复杂堆叠结构，多角度暗场专项优化深槽信号偏弱问题，荧光（PL）成像识别有机残留，实现开路 / 短路、金属凸起 / 缺损等全缺陷覆盖。

系统配备实时自动对焦技术，克服密集图形干扰与基板翘曲影响，保障大尺寸、薄型玻璃基板全片检测一致性。

传统视觉算法+深度学习双引擎：兼顾速度与精度

设备采用 “传统视觉算法 + 深度学习” 双引擎架构 ，破解传统 AOI “效率与精度不可兼得” 的行业困境。传统视觉算法高速完成 TGV 孔径、圆度、RDL 线宽 / 线距等关键尺寸精准量测；深度学习模型经海量缺陷样本训练，结合多通道信息交叉验证，大幅提升缺陷检出率、降低误报率，完美匹配先进封装产线高速节拍需求。

一次扫描全域输出：TGV&RDL量检合一，数据闭环支撑工艺优化

Venus 6200 实现一次扫描同步完成 TGV 与 RDL 全部关键尺寸量测和缺陷检测，避免检测成为产线瓶颈。系统自动输出全量尺寸参数，生成缺陷分布 Map 图与尺寸统计直方图，直观呈现基板质量分布；数据可直接对接 MES 系统，实现工单、批次与检测结果全程追溯，构建 “检测 - 分析 - 优化” 闭环管理体系，支撑工艺持续迭代。

相较于同类进口设备，Venus 6200 核心零部件高度国产化，成本更优、维修响应更快，可显著降低企业设备投入与持有成本，提升市场竞争力。

随着先进封装向高密度、高精度、高集成方向发展，AOI 检测设备已从 “看得见” 升级为 “看得深、测得准、效率高” 的核心刚需。中电科风华 Venus 6200 以技术突破打破国外垄断，为先进封装产线筑牢质量防线，助力企业抢占高端芯片封装技术先机。未来，公司将持续迭代光学成像与智能算法能力，推出更具性价比的检测方案，推动中国先进封装产业实现跨越式发展。