NAND需求爆发!三星要求供应商扩产!这种芯片气体需求激增!
外媒最新报导指出,韩国化工企业PKC宣布将半导体用高纯度氯气(Cl₂)产能提升50%,年产能由1400–1500吨增至2100–2200吨,投资规模达数百亿韩元。扩建的驱动因素是高密度NAND闪存堆叠所需的蚀刻气体需求激增,以及三星电子要求扩大氯化氢的供应。
一方面,氯气是半导体刻蚀工艺的关键特种气体,主要用于铝、铜等金属互联层刻蚀,要求纯度达到5N(99.999%)以上的超高纯等级。当前NAND闪存厂商已突破200层,并向300层以上竞争。NAND通道孔刻蚀对氯气的消耗量,显著高于DRAM;在GAA环绕栅极、FinFET等先进代工工艺中,氯气用量同样巨大。
另一方面,氯化氢需求快速增长。氯化氢由氯与氢合成,以氯气为原料,扩产氯化氢必须先提升氯气产能。氯化氢用于晶圆清洗、刻蚀及外延层沉积,可将晶圆表面残留金属离子与氧化物转化为挥发性氯化物去除,逻辑代工需求高于存储器。行业消息称,三星近期要求PKC增加氯化氢供应,并将其应用范围从仅DRAM扩大至全部NAND与代工工艺。
报道指出,PKC此次扩产是跟三星电子协同推动,因NAND闪存向300层演进及GAA、FinFET等先进制程带动氯气需求激增,且三星已要求将高纯度氯化氢(HCl)供应范围扩大至NAND与代工全流程。
由于HCl由氯气反应生成,因此扩产HCl必先扩产Cl₂,加上日本东曹(占全球HCl市场70%以上)供应不稳定,韩国加速供应链国产替代。今年2月,日本东曹曾中断对韩供应导致生产风险。
PKC与日本日本大阳日酸子公司Matheson共同主导韩国高纯氯气市场,已供应三星、SK海力士,其群山HCl产线去年6月通过三星认证。
业绩方面,PKC今年首季营收成长8.8%至702亿韩元,营业利润增逾五成至50亿韩元,获利率7.1%创同期新高,高毛利半导体特种气体营收增长37.5%。PKC今年目标是营收成长超10%,持续向半导体及二次电池高附加值材料转型。业内人士指出,PKC此次扩产是该公司成为三星核心材料供货商的关键拐点。
随着全球半导体产业快速复苏、AI芯片与先进制程需求集中爆发,叠加中东地缘局势持续紧张,今年以来电子级气体供应紧张的消息不断。其中,高纯氦气、六氟化钨、高纯氯化氢、氖气、三氟化氮等关键电子特气供需矛盾尤为突出,价格大幅上涨,部分品种甚至出现现货断供风险,已成为制约先进制程产能释放的重要瓶颈。
