TGV玻璃基板迎新突破

近日,韩国JNTC公司宣布成功开发出厚度为2毫米的玻璃通孔(TGV)基板,成为全球首家达成这一技术里程碑的企业。此项突破将JNTC的TGV技术版图从0.3毫米延伸至2毫米厚度范围,同时该公司已着手推进3毫米厚版本的研发,进一步拓展其在三维先进封装领域的材料覆盖能力。

蚀刻工艺后的玻璃基电极(TGV)玻璃基板
TGV技术通过在玻璃基板上制作垂直导电通孔,实现芯片间的高密度三维互连,被业界普遍视为传统硅通孔(TSV)的重要演进方向。在AI/HPC芯片、5G/6G射频前端及先进显示等应用场景中,该技术因其优异的高频特性、低信号损耗和可支持大尺寸封装等优势而备受关注。然而,玻璃材料的脆性特质使得微裂纹控制成为TGV规模化应用中最棘手的技术障碍。JNTC表示,其2毫米产品已顺利通过针对玻璃微裂纹的可靠性评估,标志着这一核心工艺难题获得了实质性突破。
在技术验证与产业协同方面,JNTC的2毫米TGV基板已完成与中国台湾和韩国基板制造商的联合验证,与一家日本材料供应商的资格认证测试也正在有序推进中。值得注意的是,基于多家客户对多样化加工能力的实际需求,公司已同步掌握单元切割加工技术,为后续灵活应对不同封装形态做好了工艺储备。
JNTC的前身是一家成立于1996年的韩国强化盖板玻璃企业,最初聚焦于智能手机和可穿戴设备市场,近年来逐步向汽车显示器和半导体材料领域延伸。自2024年正式切入半导体玻璃基板赛道后,公司便通过一系列战略整合加速构建竞争壁垒。
去年,JNTC吸收合并了专注于电镀和蚀刻工艺的子公司Comet,显著补强了核心制程能力;同时借助关联公司晋宇工程的设备支持,进一步提升了产品品质与成本管控水平。同年10月,公司建成TGV大规模生产线,形成从前端工艺到后端加工的垂直一体化制造体系,为量产阶段铺平了道路。
商业化进程方面,JNTC正按既定节奏稳步推进。当前公司处于客户评估与项目开发的关键阶段,量产目标锁定在2027年。
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活动推荐:第四届玻璃基板TGV及先进封装产业高峰论坛暨展览会
序号 | 初拟议题 |
1 | 玻璃通孔(TGV)技术发展现状与产业化进程回顾 |
2 | 激光诱导刻蚀(LIDE)在TGV通孔加工中的最新突破 |
3 | 高深宽比TGV通孔金属化填充工艺挑战与解决方案 |
4 | 先进PVD(HIPIMS/FCVA)在TGV种子层沉积中的应用进展 |
5 | 面板级封装(PLP)与玻璃基板的协同发展路径 |
6 | TGV玻璃基板翘曲控制与大尺寸封装可靠性研究 |
7 | 铜浆料直填技术:TGV金属化的新路线与产业化前景 |
8 | TGV制程中的检测挑战与在线全检技术方案 |
9 | 临时键合与解键合技术在超薄玻璃基板加工中的应用 |
10 | 玻璃材料创新:低CTE匹配、激光改性响应优化及大尺寸面板开发 |
11 | 全球TGV设备(激光钻孔、镀膜、电镀、检测设备)国产化进展 |
12 | 半导体玻璃基板材料与化学品的国产替代进程 |
13 | AI算力芯片对玻璃基板封装的需求与技术匹配分析 |
14 | 共封装光学(CPO)技术趋势与TGV玻璃基板的关键作用 |
15 | 射频前端模组中的TGV集成无源器件(IPD)应用案例 |
16 | Mini/Micro LED显示玻璃基板的量产实践与市场前景 |
17 | 玻璃基板在汽车电子(激光雷达、MEMS)中的应用探索 |
18 | 晶圆厂、封测厂与TGV制造企业的协同创新模式 |
19 | 从技术验证到规模量产:TGV玻璃基板良率提升与成本控制策略 |
20 | 玻璃基板时代:全球竞争格局与中国产业链机遇 |
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