ASML：中国不可能拿到最先进的EUV光刻机

发布时间：2026-06-22来源：半导体行业圈

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有报道称，美国商务部长卢特尼克此前公开质疑阿斯麦违反美国出台的出口管制政策，偷偷向中国市场出口了EUV光刻机设备，阿斯麦第一时间公开否认了相关指控。

为了彻底打消美国的对华技术出口疑虑，ASML和荷兰官方近期接连给出明确保证，再三强调中国不可能拿到他们旗下最先进的EUV光刻机设备。

一名阿斯麦官方发言人表态，阿斯麦过去从未向中国出口过任何一台EUV光刻机，也没有向中国市场出口过任何一款专为EUV光刻机设计的专属组件、模块或者配套辅助设备，所有相关流转记录完全符合管制要求。

荷兰外交部在一份电子邮件声明中表示：“在半导体制造设备的出口方面，荷兰遵循明确的规则和管制清单，这些规则和清单基于欧盟两用物项条例和荷兰国内的其他措施。”

荷兰外交部表示：“所有明确属于这些规则范围内的设备、组件和技术都需要许可证。”并补充说，荷兰严格执行这项政策，“并在必要时介入”。

今年4月，美国提出一项法案，要求美国盟友将配合其出口管制措施，以遏制中国制造先进半导体的能力，而DUV（深紫外）光刻设备也被列入该法案的制裁名单。

针对美国长期胁迫荷兰跟进对华科技封锁的相关情况，中国外交部发言人此前已经明确作出回应，中方一贯坚决反对美国泛化国家安全概念，打着各类莫须有的借口胁迫其他国家一同参与对华科技封锁的霸道行径。后续中方也将密切关注相关领域的所有动向，坚决维护自身的合法正当权益。

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