下季度营收预期为110亿至120亿欧元。作者 | 刘煜 编辑 | 陈骏达 芯东西7月16日报道,昨日,荷兰光刻机霸主阿斯麦(ASML)公布了2026年第二季度业绩财报。本季度,阿斯麦总营收同比增长21%至93.3亿欧元(约合人民币724.1亿元),环比增长6%;净利润同比增长27%至29.2亿欧元(约合人民币226.6亿元),环比增长6%,均超出市场预期。阿斯麦CFO罗杰・达森(Roger Dassen)说道:“业绩超预期的核心驱动力来自存量设备管理业务,该板块营收28亿欧元(约合人民币217.3亿元),较公司此前预估高出3亿欧元(约合人民币23.3亿元)。背后原因是晶圆厂客户全力追求生产效率提升,设备升级业务需求大幅走高。”谈及中国市场的经营状况,达森称,今年中国市场营收占总销售额的比重将维持在约20%,增速与阿斯麦整体业务同步,增量主要来自成熟制程逻辑芯片设备需求。他补充道:“中国市场的新增需求主要集中在逻辑芯片设备赛道,服务本土产业链自主需求。”阿斯麦CEO克里斯托夫·富凯(Christophe Fouquet)称,该公司2026年Low NA EUV(低数值孔径极紫外光刻机)产能约65台,该设备2027年全年的订单基本已经敲定,阿斯麦计划2027年把产能提升30%;客户已下达大量远期相关订单,促使该公司评估2028年EUV再扩产30%的可行性。同时,EUV的扩产将带动DUV immersion(浸润式深紫外光刻机)的需求,2026年后者产能约130台,2027年将扩产30%,2028年拟再提升30%产能的计划正在评估中。谈及High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)的落地情况,富凯称,昨日上午其官宣与英特尔合作,英特尔代工将在Intel 18A制程节点上采用阿斯麦High NA EUV,生产部分Intel Core Ultra系列3处理器。他说道:“该里程碑证明High NA EUV已具备量产适配能力,是关键突破。”富凯还透露,2026年全年确认营收的High NA EUV设备为4至5台。关于EUV机型的定价调整空间,达森称,阿斯麦正持续提升Low NA EUV设备的产能产出效率,该公司坚持价值定价,长期拥有上调定价的合理空间。他补充道:“但受超长订单交付周期约束,价格调整不会立刻落地。”关于定价调整的节点,他称,这取决于和客户签订的订单周期,不同客户订单交付周期差异较大,需求景气的大趋势已经确定,但无法给出精准时间点。截至今日美股收盘,阿斯麦股价上涨2.23%至1815.27美元/股(约合人民币1.23万元/股),其市值约为6996.37亿美元(约合人民币4.74万亿元)。
财报电话会议上谈及逻辑芯片赛道的需求,富凯称,厂商持续扩充3nm产能以支持新一代AI加速器量产,同步扩大4nm、5nm产线,覆盖AI产品配套芯片;2nm工艺加速上量,面向下一代高性能计算与移动终端。他还说道:“部分客户已启动1.4nm工艺研发,并开始配套设备采购规划。逻辑芯片光刻强度持续提升,推动先进光刻设备需求大涨,预计今年先进逻辑晶圆厂整机销售额同比增速超过25%。”富凯称,DDR、HBM价格上行,倒逼存储大厂大规模扩建晶圆厂,多家厂商规划多座巨型工厂,新增产能将在未来数年分阶段投产。同时存储厂商向先进制程迭代,光刻工艺强度持续提升,Low NA EUV逐步替代多重曝光DUV,逐渐降低生产成本,该趋势同时也会持续放大阿斯麦增长弹性。综合来看,他预计今年存储相关整机销售额同比增幅将超75%。谈及EUV业务,达森称,2026全年Low NA EUV设备出货量约65台,EUV整机销售额同比增长超45%,逻辑、存储双赛道需求同步爆发。关于非EUV设备,他透露,浸润式DUV全年出货约130台,与2025年交付规模持平;今年阿斯麦已联动供应链伙伴加速产能爬坡,干式DUV设备出货量同比大幅增长。由于先进制程对工艺控制精度要求提升,光学检测、量测设备在全行业客户中渗透率快速提升。他说道:“综合判断,全年非EUV整机销售额同比增长约25%。”谈及EUV光刻机的出货产品,达森称,阿斯麦明年出货的设备型号将是E型和F型,E型将占绝大多数,而今年出货的产品则是D型和E型的组合。他预计D型产品库存今年内就会耗尽,或者几乎耗尽,同时今年该产品将全部交付完毕。他补充,E型和F型的产品组合的平均销售价格将高于今年的产品组合,该组合还将带来更高的生产效率,并且具有更优的毛利率结构。同时,折算晶圆加工吞吐能力,E型和F型高性能机型的实际有效产能提升约45%,远高于明年30%的台数增幅。达森透露,今年下半年浸润式DUV的出货量将显著高于上半年。他还说道:“设备吞吐量提升与平均销售价格之间存在非常强的相关性。”EUV产品定价调整的相关支撑,部分来自于该类设备吞吐量的提升。富凯补充道:“全新F机型面向2nm、1.4nm下一代先进工艺。F机型交付时间线完美匹配1.4nm工艺研发量产需求;同时E、F机型成像、套刻性能标准统一,可混合搭配用于2nm产线。只要2nm扩产需求持续,F机型同样会作为新增产能备选方案。”关于未来EUV的扩产,富凯称,2027年和2028年所评估的扩产计划,全部依托现有厂区土地空间完成。过去6至9个月阿斯麦一直在全力挖掘现有产线交付潜力,未来数月也会持续优化。关于2028年Low NA EUV扩产30%对应的110台的产能目标,该公司仅通过盘活现有洁净室空间即可达成。 03.结语:业绩受益芯片扩产增长依赖下游景气度