传光刻机巨头酝酿涨价！台积电直接反对！

据外媒报道，有四位知情人士透露，全球核心芯片设备供应商阿斯麦（ASML）计划提高芯片制造设备价格。消息称，阿斯麦近期已与台积电讨论提高其极紫外（EUV）光刻系统的价格。并且阿斯麦在最近几周告知部分客户，计划对其深紫外（DUV）光刻系统提价10%。但台积电已开始抵制阿斯麦的定价方案，反对极紫外（EUV）与DUV设备同步涨价。

ASML生产用于制造先进半导体所必需的EUV曝光机，在人工智能（AI）热潮推动下，ASML设备需求持续激增。

ASML最先进DUV光刻机单价约9000万美元，上一代EUV光刻机设备约2.2亿美元，最新一代EUV机型售价最高可达4亿美元。

RBCCapitalMarkets分析师SriniPajjuri等人在表示，台积电、三星电子、SK海力士等ASML主要客户的业绩强劲，使当前市场环境「具备涨价条件」。

阿斯麦二季度麦实现净销售额93.3亿欧元（上季度为88亿欧元），彭博分析师一致预期为88.5亿欧元；营业利润34.6亿欧元，市场预期30.7亿欧元；净利润29.2亿欧元，市场预期26.4亿欧元；毛利率录得54%，同样优于预期的52%。

阿斯麦表示，业绩超预期的核心驱动力来自存量设备业务（The Installed Base business），主要原因是客户迫切寻求提升生产效率，设备升级业务需求十分旺盛。

ASML财务长Roger Dassen也因此在会议上提及，可能调整较低数值孔径（LowNA）EUV曝光机的价格。Dassen表示：「我们持续提升LowNAEUV设备的生产效率，这也为未来潜在价格提升提供了相当大的空间。」不过，他也提到，由于设备订单交付周期较长，即使调整价格，也不会「明天就反映到定价效果上」。

ASML还第二次上调全年销售预测，并计划扩大产能，以满足持续增长的市场需求。ASML预估2026年净销售额将达到430亿至450亿欧元（约492亿美元至515亿美元），高于分析师普遍预期。

阿斯麦还透露，英特尔晶圆代工正在使用其EXE High NA EUV光刻设备（EXE高数值孔径极紫外线光刻机），在英特尔18A工艺节点上生产部分酷睿Ultra 3（猎豹湖）处理器。

阿斯麦表示，这是一个意义重大的里程碑，印证了这款设备在技术上已经成熟。

EXE High NA EUV设备是阿斯麦目前最先进的设备，单台价格约4亿美元，约为标准EUV设备的两倍，且技术导入难度较高。台积电曾表示，该设备不适合大规模生产，未来某个时候才会转向采用该技术。