Manz亚智科技率先完成310、510及700mm面板级封装ECD与湿制程设备量产平台布局

2026年8月18日,Manz亚智科技领先业界率先完成310mm、510mm及700mm跨尺寸ECD(Electrochemical Deposition,电化学沉积)量产平台布局。为进一步提升RDL重布线层制程整合能力,以ECD为核心,整合清洗、显影、蚀刻及剥膜等关键化学湿制程,推出Omni 310、Omni 510及Omni 700面板级封装RDL制程设备解决方案,建立具高度扩充性的RDL制程平台,提升先进封装制造的量产弹性,应对不同基板尺寸所带来的制程整合挑战。
跨尺寸、可扩充、制程整合:
展现制程与设备整合优势
Omni系列以「跨尺寸、可扩充、制程整合」为核心研发策略,不仅提供单一制程设备,更可依据客户的封装架构、基板尺寸与制程需求,灵活配置且具高度扩充性的 RDL 制程设备解决方案。
从产品开发、制程验证,到量产导入与产能扩充,Omni 系列可配合客户产品发展及制造需求逐步扩展,协助建立具高度弹性与延展性的面板级封装制造平台。
通过制程与设备整合能力,Manz亚智科技可提供多项关键制程设备,降低客户同时导入多家设备供货商所涉及的接口整合、制程协调与设备管理复杂度,进而提升制程一致性、设备整合效率与量产管理效益。
从成熟应用到新一代先进封装,
延伸RDL制程价值
随着AI、高效能运算(HPC)及异质整合持续推动先进封装发展,封装技术正朝向更高I/O密度、更大封装尺寸及更复杂的多层互连架构演进。RDL作为连接芯片、中介层、封装基板及PCB的重要互连技术,其制程能力对先进封装的整体效能与量产可行性日益关键。
凭借Omni系列RDL制程平台,Manz亚智科技已将相关设备与制程能力应用于 PMIC、RF及车用等成熟市场,累积高均匀性、高填孔能力及制程稳定性的量产经验,并持续将相关技术延伸至 CoPoS及FOPLP、Glass Core TGV 玻璃载板与玻璃通孔等新一代封装架构,持续推进RDL制程朝向更大封装尺寸、更高互连密度及更高量产效率发展,布局未来高效能、高带宽封装的制造需求,响应AI与HPC对高带宽、高密度互连及高效能封装的需求。
Glass Core TGV玻璃载板与玻璃通孔:
布局下一代高密度互连制程
随着Glass Core逐步成为下一代先进封装的重要技术方向之一,TGV玻璃通孔制程对玻璃微加工、通孔形成、金属化及高深宽比填孔提出更高要求。
Manz亚智科技进一步提升蚀刻与ECD设备能力延伸至Glass Core TGV制程,其中,玻璃蚀刻设备可支持最高0.4 mm玻璃基板加工、20 μm微孔制作及最高1:20高深宽比TGV结构,实现高精度通孔形成;ECD设备则具备高深宽比填孔能力,结合种子层与电镀制程,可实现均匀且稳定的金属填孔,满足TGV后续金属化对镀层均匀性、填孔质量及结构可靠性的要求。
通过蚀刻与ECD两大核心制程能力的整合,Manz亚智科技建立涵盖玻璃微加工、TGV形成及后续金属化的制程能力,支持不同厚度玻璃载板的制造需求,为高密度、低损耗及高可靠性封装提供制程基础,持续建立面向下一代先进封装的量产导入建立关键制程能力。
将跨产业制程经验转化为先进封装量产能力
Manz亚智科技总经理林峻生表示:“半导体封装的发展已不再只是追求芯片微缩与高密度整合,而是进一步朝向更大封装尺寸、更高互连密度及更高量产效率发展,这将是面板级封装实现商业化的关键。AI驱动的面板级封装与异质整合,正加速RDL成为新一代封装架构的重要制造基础,也对设备的尺寸扩展、制程整合与量产能力提出更高要求。”
“Manz亚智科技深耕PCB、IC载板、显示面板及半导体封装产业四十年,累积了深厚的基板处理与RDL制程设备整合经验。我们将跨产业的制程know-how转化为先进封装的制造能力,从跨尺寸设备平台、制程整合到量产导入,协助客户适应不同封装架构、基材及量产规模的需求,实现更具效率与经济效益的制造。”
林峻生进一步指出:“Manz亚智科技的核心价值,不仅在于提供先进设备,更在于协助全球半导体客户将创新制程转化为具备量产能力、成本效益与高生产效率的制造解决方案。从突破面板级封装技术瓶颈;从成熟应用到加速新技术商业化落地,Manz亚智科技将持续携手全球半导体产业伙伴,推动面板级封装新技术由研发验证迈向大规模量产,共同打造 AI 时代更具韧性与全球竞争力的先进封装生态系。”

▲ Manz亚智科技Omni系列布局310、510及700 mm面板级封装市场,率先建构完整ECD与湿制程设备量产平台。
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