技术突破 | 富加镓业6英寸氧化镓晶锭等径厚度逾70 mm
发布时间:2026-08-24来源:半导体材料行业分会


晶锭厚度是衡量单晶生长技术成熟度与产业化程度的关键指标,更厚的晶锭意味着单根晶体可切割出更多衬底片,直接降低单片成本。该6英寸晶锭厚度经中国计量科学研究院权威检测,晶锭厚度平均值70.58 mm ,已超过主流碳化硅晶锭20-50mm的高度。
平湖实验室对VB氧化镓衬底进行了HRXRD多点摇摆曲线测试,结果如下:5个点位的FWHM均值为38.71arcsec,均低于50arcsec,表明衬底整体结晶质量优异。


电阻率是影响器件正向导通效果的关键参数,其均匀性决定了器件性能的一致性,是量产良率的重要保障。中国计量科学研究院对该6英寸衬底进行了电学性能检测,电阻率均值:16.4 mΩ·cm ,均匀性:6.8%。

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