国产光刻机重大突破！上海微电子新一代光刻机SSC800、SSB800平台模型亮相

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。上海微电子装备集团携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型亮相中国馆，集中展示我国前道光刻装备自主化的阶段性进展。

此次展出的模型采用透明剖视设计，可直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统等核心环节均实现全链条自主可控，具备较好的工艺适配能力和产线运行可靠性。

其中，SSB800系列面向280nm及以上典型光刻制程，强调高产率与较强工艺适应性，可服务于功率半导体、模拟集成电路、微机电系统等成熟制程制造领域。SSC800系列则面向110nm及以上精细化制程需求，在曝光精度、畸变控制和套刻性能方面进一步升级，重点面向AI高性能计算、高密度存储、微处理器以及Micro LED等应用场景。

目前，国产前道干式光刻机的成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度和生产效率正持续追赶国际标杆。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超过92%，在自主技术可控、国产替代落地和产业链安全可靠方面形成优势。

上海微电子成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的重要支撑主体。公司业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务，正持续联合上下游供应链和行业伙伴，推动国产半导体装备生态建设。

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