寡核苷酸杂质怎么控？产品相关杂质全梳理

发布时间：2026-11-10来源：药事纵横

摘要：寡核苷酸药物杂质控制是保障其用药安全的关键质量研究内容。本文梳理了 NMPA、EMA及OSWG对于寡核苷酸药物产品相关杂质的监管分级要求，按照来源将杂质划分为产品相关杂质与工艺相关杂质，重点对产品相关杂质开展分类研究，将其分为核苷酸间键修饰、糖环修饰、碱基修饰、缺失序列、插入序列以及高分子量交联杂质六大类别，阐释各类杂质的产生来源与形成机制。同时结合固相合成各工艺环节及储存过程中的酸、碱、氧化、高温、光照等降解条件，汇总不同杂质对应的质谱质量偏移、结构特征与产生诱因，介绍质谱技术在寡核苷酸合成与降解杂质中的解析应用。研究表明，寡核苷酸杂质种类复杂、产生途径多样，需要结合药物合成路线与降解特征，采用多维正交分析方法实现杂质有效识别与定量，建立全流程杂质控制策略，为寡核苷酸药物的质量研究、杂质识别及风险管控提供技术参考。

一、对于寡核苷酸产品相关杂质研究，EMA、NMPA等相关要求如下

二、产品相关杂质分类

依据EMA、NMPA及ICH等权威监管机构的杂质分类框架，药品杂质可划分为产品相关杂质与工艺相关杂质两大类。其中，产品相关杂质指在生产或储存过程中产生、与主成分结构直接相关的物质（如降解产物、异构体、聚合物等）；工艺相关杂质则源于生产过程，包括残留溶剂、试剂、催化剂、元素杂质及工艺副产物等。全流程杂质控制框架图如下所示：

本文重点围绕产品相关杂质的定义、来源、结构特征及控制要点展开系统介绍。

寡核苷酸原料药的产品相关杂质主要分为六类，包括核苷酸间键修饰杂质、糖环修饰杂质、碱基修饰杂质、缺失序列杂质（n-类）、插入序列杂质（n+类）及高分子量交联杂质，涵盖了骨架修饰、糖环修饰、碱基修饰、序列长度变异及分子间交联等多种形式，均为工艺过程或降解过程中产生的与主成分结构相关的杂质。

三、寡核苷酸合成及降解杂质的质谱表征与解析

寡核苷酸的固相合成主要由脱DMT、偶联、氧化/硫化及盖帽四个核心循环步骤构成，并在合成结束后进行最终裂解与脱保护。在上述工艺过程及后续储存条件下，寡核苷酸易发生多种降解反应，主要包括酸降解、碱降解、氧化降解、高温降解及光照降解。

本文系统梳理了各类降解途径对应的质谱信号特征、降解机理及降解产物结构式，相关数据汇总于下表。

四、结论：

寡核苷酸药物的杂质体系复杂，杂质来源于固相合成各工艺步骤、起始物料以及储存过程中的化学降解，其中产品相关杂质与主成分结构高度关联，是质量研究的核心对象。NMPA、EMA、OSWG 建立了报告限‑鉴定限‑界定限的分级管控模式，并依据杂质结构相似度划分安全评估类别，为杂质风险评估提供监管框架。核苷酸间键修饰、糖环修饰、碱基修饰、序列长度变异以及高分子量分子间交联是寡核苷酸主要的产品相关杂质类型，合成过程的脱保护、偶联、氧化硫化、盖帽、氨解工序，以及储存阶段氧化、高温、光照、酸碱环境，均可诱发各类杂质生成。质谱可提供精确分子量偏移信息，是杂质结构初步归属的重要手段，但单一分析手段难以实现全部杂质的有效检出。

在实际研发中，应结合药物自身合成工艺特点与降解行为，采用多维正交分析技术提升杂质检测的专属性与准确度；优先通过工艺优化从源头降低杂质水平；对于超过界定限的杂质，按照监管分类开展对应的安全性评估，构建完整的杂质控制策略。上述思路可为治疗性寡核苷酸药物的质量研究、杂质识别与风险控制提供参考，保障制剂的安全性与质量可控性。

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